Diseñadores chilenos invitados al “Epson NY Fashion Week 2015”; junto a Pilar Novoa, Gerente de Marketing y Juan Sebastián Morales, Product Manager de la Línea LFP; ambos de Epson Chile.
La multinacional Epson Chile reunió a los principales diseñadores nacionales para invitarlos a participar por primera vez en un concurso de moda durante el NY Fashion Week 2015, certamen internacional que seleccionará a 11 representantes latinoamericanos, para exhibir los mejores trajes realizados con telas creadas a partir de la tecnología de sublimación digital.
Avalada por ser uno de los pioneros en abrirse al mundo del diseño gracias a su tecnología de sublimación, la multinacional da un salto al mundo de la moda, ofreciendo un concepto que se adelanta a la industria textil.
En un desayuno realizado en las oficinas de la compañía en Santiago, se reunió a ocho prestigiosos diseñadores nacionales: Millaray Palma, Israel Camus, Marco Antonio Farías, Miguel Ángel Guzmán, Ricardo Oyarzún, Heri Levi, Matías Hernán y Paulo Méndez, para invitarlos a participar en este novedoso concurso, que se realizará por primera vez en Chile y América.
Como una forma de expandir el trabajo creativo de estos artistas chilenos, es que la empresa japonesa está realizando el “Epson NY Fashion Week 2015”, concurso que le dará al ganador la posibilidad de viajar a Nueva York en febrero de 2015 a representar a Chile en un evento privado de la multinacional, que se llevará a cabo en forma paralela al NY Fashion Week, donde reunirá a los mejores diseñadores de la Región, quienes exhibirán sus colecciones realizada con telas sublimadas por equipos de impresión Epson.
