Epson presente en Semana de la Moda de Nueva York

Publicado el 15 Feb 2015

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Epson presentó, durante la Semana de la Moda de Nueva York, el evento más prestigioso de moda a nivel mundial, “Digital Couture Project-Epson New York Fashion Week”, una iniciativa original que integra “moda” y “tecnología”.

La compañía llevó a cabo una propuesta innovadora y fashion, seleccionando a 11 diseñadores de las Américas dispuestos a incursionar en una revolución tecnológica en sus colecciones, mediante el uso de la tecnología de sublimación digital para crear nuevos estilos e hitos en la moda.

El evento se llevó a cabo en “Industria Superstudios”, un mítico estudio neoyorkino referente de creatividad, moda y fashion trends, donde los asistentes fueron testigos del despliegue de las pasarelas nutridas con diseños que desafían los estándares y buscan la oportunidad de imponerse como la nueva tendencia que marcará el presente de la moda durante el 2015.

Las modelos vistieron las colecciones de diseñadores de Brasil, México, Colombia, Perú, Argentina, Chile, Costa Rica, Ecuador y los Estados Unidos, inspiradas en el futuro del fashion y la sublimación digital, elaboradas con diversos materiales donde se incluyeron piezas sublimadas con las impresoras SureColor Serie F de Epson.

“La moda se construye sobre tendencias, y la tecnología, desde hace años, es una tendencia en sí misma. Los diseñadores que participaron de este ambicioso proyecto demostraron que, con la tecnología de sublimación, la versatilidad en el diseño y la calidad de los colores y detalles en las prendas están al nivel de Alta Costura” comentó Agustín Chacón, Vicepresidente de Ventas y Operaciones Latin Subsidiary de Epson.

“La propuesta de Epson tuvo como objetivo demostrar que la sinergia entre moda y tecnología abre las puertas tanto a emprendedores como a diseñadores ya establecidos, a una nueva oportunidad creativa y funcional, con el respaldo que ofrece la calidad de sus productos. Y el resultado de este proyecto demuestra que se ha logrado”, concluyó Chacón.

Cabe destacar que en representación de Chile participó el diseñador Marco Antonio Farías.

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Redacción

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