Epson ofrece al mundo del diseño la posibilidad de crear sus propias telas con su línea de impresoras de sublimación, que busca cambiar la forma de presentar las colecciones de moda y que entregará aún más propiedad a los diseñadores.
Con este objetivo, la empresa reunió a los principales diseñadores nacionales para invitarlos a participar por primera vez en el evento Epson durante el NY Fashion Week 2015, certamen internacional que seleccionará a 11 representantes latinoamericanos, para exhibir los mejores trajes realizados con telas creadas a partir de la tecnología de sublimación digital. Así, el talento de los diseñadores latinos será premiado por la firma Epson en la Semana de la Moda de Nueva York.
Este fenómeno de diseñar en telas sublimadas despertó gran interés entre los creadores de vestuario chilenos, quienes tendrán la oportunidad de realizar por primera vez en Chile una coleccion de ropa con una impresora de sublimación, método que se ha convertido en tendencia en los últimos años, por la versatilidad al momento de realizar los trabajos, logrando resultados excepcionales con colores definidos y vibrantes, además de detalles finos y trabajados, gracias a la tecnología Micro Piezo, con los cuales la industria puede crear materiales personalizados, sin limitarse a los estampados tradicionales, y producir prendas de altísima calidad.
En un desayuno realizado en las oficinas de Epson Chile, se reunió a nueve prestigiosos diseñadores nacionales: Millaray Palma, Pato Moreno, Israel Camus, Marco Antonio Farías, Miguel Ángel Guzmán, Ricardo Oyarzún, Heri Levi, Matías Hernán, Paulo Méndez, para invitarlos a participar en este novedoso concurso, que se realizará por primera vez en Chile y América.
Como una forma de expandir el trabajo creativo de estos artistas chilenos para darse a conocer al mundo a través de una nueva técnica de la moda, es que la compañía está realizando el Epson NY Fashion Week 2015, concurso que en la primera face recibirá de los participantes, dos bocetos de sus coleciones otoño invierno 2015. De esos trabajos, un jurado de la compañía Epson Chile seleccionará solo dos, y sus diseños serán despachados a Estados Unidos, donde se eligirá al ganador del certamen a nivel nacional.
El ganador tendrá la posibilidad de viajar a Nueva York en febrero de 2015, a representar a Chile en un evento privado de la multinacional, que se llevará a cabo en forma paralela al NY Fashion Week, que reunirá a los mejores diseñadores de la Región, quienes exhibirán sus colecciones realizada con telas sublimadas por equipos de impresión Epson.
Según Juan Sebastián Morales, Product Manager LFP de Epson Chile, ”el Epson New York Fashion Week, es un evento de carácter regional, que convoca a diseñadores de diferentes países de América, cuyo objetivo es acercar la tecnología de sublimación a la industria de la moda, de una manera diferente e innovadora. Hoy Epson cuenta con tecnologías de punta en esta materia, poniendo a disposición de la industria insumos certificados para uso en prendas de vestir, como las tintas de sublimación, e impresoras altamente productivas en flujos de trabajo de alto volumen”.
Esta herramienta permitirá hacer un cambio en la forma de diseñar, ya que se romperá con el estandar de comprar lo que se vende, sino que ahora se va a producir lo que el cliente realmente desea. Además, permite saber cómo se hace el producto, convirtiendo al consumidor en “prosumidor”, término que surge de la combinación de “producto” y “consumidor”.
Por otra parte, la globalización es otra de las ventajas que entrega esta innovadora forma de crear, porque con esta tecnología se podrá reducir los costos y reemplazar el envío de containers, por la transferencia de un código que permita imprimir en cualquier parte del mundo.
Mayor información en www.epson.cl.
