El diseñador Matías Hernán es la carta de Epson Chile para participar en el “Digital Couture Project – Epson New York Fashion Week 2016”, que se realizará durante la semana de la moda de Nueva York. El estilo de vanguardia futurista del modisto nacional se impuso en esta segunda versión para plasmar sus diseños en la impresora de sublimación Epson SureColor Serie F, poniendo la tecnología al servicio de la creatividad en la moda.
El representante de Chile en el Digital Couture de Epson fue seleccionado de un grupo de destacados diseñadores nacionales, quienes compitieron por un cupo para mostrar sus diseños en las pasarelas de Nueva York.
Los participantes tuvieron que elaborar sus creaciones con la moderna herramienta tecnológica de la sublimación digital de telas, desarrollada por Epson, pionera en esta innovación fundamental para la moda del siglo XXI.
La sublimación es una técnica desarrollada por Epson para la impresión de telas mediante la transferencia de la tinta mediante la aplicación de calor.
Ahora la misión de Matías Hernán consiste en desarrollar una minicolección de cuatro tenidas de temporada Otoño, bajo el concepto de “Armonía y paz a través de la Moda”, para ser expuestas en el gran evento Digital Couture Epson, la segunda semana de febrero de 2016, junto a los diseños de modistos de 10 países.
Los diseños serán impresos en la nueva SureColor Línea F, un equipo de alta flexibilidad cuyo mayor provecho dependerá de las capacidades creativas de los modistos.
Matías Hernán afirmó estar muy motivado con su presentación en Nueva York, destacando que “hace mucho tiempo que estoy trabajando con la sublimación en todo su espectro en las telas que yo hago, también con pelucas, sé que va a ser muy bueno el resultado. Estoy muy contento con esta oportunidad”.
“Es un gran evento que congrega el mundo del diseño textil de Latinoamérica a través de la sublimación, donde la creatividad de 10 diseñadores fluye en torno a esta técnica”, comentó la nueva Gerente de Marketing de Epson Chile, Soledad Camps.
